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在鍍膜過程中需要對一些重要參數進行監(jiān)控,如膜層厚度、成分、表面光潔度、光透射率、反射系數、偏振特性等,都可以利用光譜學和雙光束干涉的方法進行測量。光纖的使用為監(jiān)控過程提供了靈活的工具,可以使光方便地進入或導出遠方的真空超凈室,而且可以同時為膜層分析提供多個幾何量的測量選擇。膜層的照明和發(fā)光的探測可以在相對于膜層的不同光纖位置進行,可以測量鏡面反射、漫反射、傳輸、偏振、干涉、熒光和拉曼散射等。可以利用多根光纖同時監(jiān)測多個參數,或者在不同的空間位置或掩模條件下同時測量。
用幾個適宜結構的光纖探頭,就可以在線監(jiān)測生產的全過程。在一些場合中,可以通過監(jiān)測離子源(如等離子源)的光譜輻射來確定鍍膜過程中的條件效率。
對于大多數此類監(jiān)測系統(tǒng)來說都需要專門的實驗布局,我們可以為您提供適合您應用的實驗布局,這里僅舉一個應用系統(tǒng)的例子。
在這里使用一個反射型光纖探頭來在線監(jiān)測鍍膜生產過程。光纖通過過真空裝置進入真空室,然后傳到反射探頭上。反射光經過另一個過真空裝置,進入光譜儀的一個測量通道。反射型探頭可以用SMA接頭拆下。還可以再增加一個光譜儀通道,用來進行參考測量或補償光源本身的波動對測量結果的影響。
光譜儀 | AvaSpec-ULS2048(200-1100nm) |
軟件 | AvaSoft-Full軟件和XLS或PROC應用軟件 |
光源 | AvaLight-DH-S-BAL均衡光譜型氘-鹵素燈 |
光纖探頭 | 1根FCR-7UV200-2-ME反射型光纖探頭,1根FC-UV600-2光纖和1根FC-UV200-2光纖 |
過真空裝置 | FC-VFT-UV200和FC-VFT-UV600 |